多々野昌稀 小橋早苗 大友唯愛 椿美羚[CRST-019]发行于2009-01-17时长239分钟出品商是映天,CRST-019作品种子搜索下载,[ALD-193]发行于2009-01-07时长241分钟出品商是桃太郎映像出版,ALD-193作品种子搜索下载
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ALTUS® 系统处于市场领先水平，结合CVD和ALD，用于先进的钨金属化工艺中高保形薄膜沉积工序，应用场景包括钨插塞、接触孔和通孔填充、3D NAND字线、低应力复合互连，以及用于通孔和接触孔金属化的WN阻挡膜。SABRE系列可实现铜、钨等其...
其中 CVD 设备在薄膜沉积设备中占有 量接近 60%，其次是 PVD 设备占有量接近 25%，最后是 ALD 设备占有量接近 18%。薄膜沉积设备是晶圆制造的三大主要设备之一，投资规模占晶圆制造设备总投资的 25%，国产化率仅为 2%，主要依赖进口...
国海证券指出,作为一个能同时在“电子特气、ALD前驱体及193nn光刻胶”等多个领域获得国家“02专项”大力支持的企业,充分说明了南大光电在半导体材料方面无论是研发实力还是产业资源,均处于国内首屈一指的地位,随着其各项业务的顺利推进,...
目的:建立一种液相色谱串联质谱(LC-MS/MS)方法检测人体血清和尿液中醛固酮(Aldosterone,ALD)的方法并对基于不同方法学的ALD检测系统进行方法学评价及比较. 方法:方法学建立及评价.血清以及酸解后尿样本用硫酸锌除蛋白,离心取上清,使用阴...
半导体领域,公司 ALD 设备主要以批量式(管式)ALD 为主,28nm ALD 设备用于制备高 k 材料 HfO2,另外 HfO2、 ZrO2、La2O3 以及互相掺杂沉积工艺可用于新型存储器如铁电存储(FeRAM)芯片的电容介质层,沉积的 Al2O3、 TiN、AlN 可用...
ALD设备沉积的薄膜具有非常精确的膜厚控制和非常优越的台阶覆盖率,对于多维结构体表面精确成膜需求具有不可替代的应用。基于此,在28nm以下关键尺寸缩小的双曝光工艺方面取得了越来越广泛的应用。