貴水らん 華美月 桜朱音 RIRICO 佐藤江梨花 堀内まい 松下可憐 星野あかり 高橋ケイト 土屋ゆづき[ALD-392]发行于2010-12-07时长240分钟出品商是桃太郎映像出版,ALD-392作品种子搜索下载,[AT-070]发行于2010-11-17时长158分钟出品商是ロータス,AT-070作品种子搜索下载
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随着微电子行业的发展, 集成度不断提高、器件尺寸持续减小, 使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战, 然而原子层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术, 因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好, 还能十分精确地控制薄膜的厚度与...
ALD 隔膜阀具有超长的使用寿命、高速的启动和高达 0.62 的流量系数,与热执行机构、位置传感器和电磁阀配合使用,可在原子层沉积应用场合实现最佳性能。 工作压力: 真空至 145 psig (10.0 bar) ...
各位大佬，哪位朋友能给推荐两文献或者专著介绍ALD机理的啊，比如说前驱体流量对成膜的影响啊等等的……...