中森朔夜[DUV-002]发行于2001-06-14时长45分钟出品商是ダウトフル ウェーブ,DUV-002作品种子搜索下载,[EBR-015]发行于1998-11-13时长45分钟出品商是エンバー,EBR-015作品种子搜索下载
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DUV光刻机“卡脖子”关键时刻，中企亮明态度！大家都知道，我们目前在EUV光刻机上正在遭遇卡脖子的局面。原本以为像是DUV光刻机这样成熟的半导体工艺设备并不会遭遇同样的局面。但让我们没有想到的是，如今也进入到了一个DUV光刻机“...
EUV已被确定为先进工艺芯片光刻机的发展方向。 DUV已经能满足绝大多数需求:覆盖7nm及以上制程需求。DUV和EUV最大的区别在光源方案。duv的光源为准分子激光,光源的波长能达到193纳米。然而,euv激光激发等离子来发射EUV光子,光源的波长则为...
ASML's deep ultraviolet (DUV) lithography systems dive deep into the UV spectrum to print the tiny features that form the basis of the microchip.
其实，ASML积极向国内出货，仅在第一季度就向国内市场出货23台DUV光刻机，这说明了ASML的三点变化。首先，ASML看重国内市场。国内市场是全球最大的芯片消费市场，但并没有引起ASML的足够重视，芯片等规则被修改后，国内芯片研发制造一下...
国内上海微电子也有DUV光刻机，采用的是浸润式，不过技术相对落后，虽然也称之为DUV，却还处于90nm的精度。相对于EUV光刻机，DUV确实算成熟的技术了，所以一直以来，DUV光刻机是自由的，ASML也好，尼康也好、佳能也好，是无需获得美国...
David M. Williamson"DUV or EUV: that is the question", Proc. SPIE 4146, Soft X-Ray and EUV Imaging Systems, (8 November 2000);https://doi.org/10.1117/12.406659 ACCESS THE FULL ARTICLE ...