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INP-011 搜索结果

  • 木ありす)[AD-159][INP-011]作品及种子搜索

    Alice(鈴木ありす)[AD-159][INP-011]作品及种子搜索下载
    2020-04-22 17:00:00

    Alice(鈴木ありす)[AD-159]发行于2009-04-17时长99分钟出品商是アウダースジャパン,AD-159作品种子搜索下载,[INP-011]发行于2009-02-24时长123分钟出品商是ピーターズ,INP-011作品种子搜索下载

  • 《炬丰科技-半导体工艺》InP 中对准 V

    《炬丰科技-半导体工艺》InP 中对准 V
    2021-11-08 02:57:30

    在上横坐标上,角度“0”定义为从方向绕[011](或等效的轴顺时针旋转。图2,定义为从轴顺时针旋转。0° = 54.7°、90°和144.7°时的局部最小值决定了蚀刻过程中刻面的斜率或米勒指数。这些角度对应于方向上取向的掩模条纹的和...

  • InP(100)的化学减薄与化学抛光 -

    InP(100)的化学减薄与化学抛光 -
    2020-01-18 07:04:08

    DOI: CNKI:SUN:GTDZ.0.1983-01-011 被引量: 2 年份: 1983 收藏 引用 批量引用 报错 分享 全部来源 求助全文 知网 (中南林图书馆已购) 万方 相似文献 引证文献一种对InP基RFIC晶圆进行电化学减薄抛光的方法 本发明公开了一种...

  • MSD011A2XX-「」

    MSD011A2XX-「」
    2013-11-19 03:39:55

    INP-400PS416-OUT-400PS416-CPU-300PS416-POW-400 HC-MF43BP60B18550RXS00SGMAH-04AAA41SGDM-04ADASGMAH-08AAA41SGMAH-08AAA4CSGMGH-44ACA61SGMGH-20ACA61SGM-04A312SGM-02A314<...

  • Si~+注入InP材料的欧姆接触特性研究--《半导体学报》1994年06期

    Si~+注入InP材料的欧姆接触特性研究--《半导体学报》1994年06期
    1601-01-01 08:01:15

    【摘要】:本文报道Si+注入InP材料与AuGeNi合金和W金属膜的欧姆接触特性.发现Si+单注入样品与二者均形成较好的欧姆接触,共P+注入的样品中比接触电阻则大大下降(约小一个数量级).卢瑟福背散射分析表明,600℃热处理后W金属膜与InP界面作用...

  • 低阈值1.3μmInGaAsP/InP应变补偿多量子阱DFB激光器LP┐MOCVD生长...

    低阈值1.3μmInGaAsP/InP应变补偿多量子阱DFB激光器LP┐MOCVD生长...
    1601-01-01 08:01:28

    1邓云龙;涡轮LP-MOCVD研制GaInP/GaA1InP应变多量子阱高亮度发光二极管[D];华南师范大学;2002年 2杜荣建;超高速光时分复用通信系统关键技术研究[D];天津大学;2003年 3吕威;低维半导体材料(InGaN量子阱、InAs量子点)显微结构与光学性能...

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