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本文报道了采用四极质谱计实现在PCVD系统中对制备a-Si:H薄膜时的硅烷射频辉光放电中性基团的在线测量。获取了在低压强、小放电功率条件下,SiH2与SiH3...
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http://linkinghub.elsevier.com/retrieve/pii/0022328X86802637doi:10.1016/0022-328x(86)80263-7J. BoyerC. BreliereR.J.P. CorriuA. KpotonM. Poirier...
SiH₄ вобласті існуваннянизькотемп...002) Å , b= (4,601± 0,001) Å , c = ( 7,364±0,002) ...
在前一阶段我们已报导了SiH_4—NH_3—H_2体系热解淀积氮化硅薄膜的制备、...doi:CNKI:SUN:WXYJ.0.1974-02-002管绍茂CNKI微电子学与计算机...
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doi:10.1007/s00330-002-1509-9AnnaMessoriUgoSalvoliniMessori A, Salvolini U. The spectrum of spinal MR findings in SIH. Eur Radiol 2002; 12: 2608-...