ALD-289 搜索结果

[ALD-289]发行于2009-12-19时长241分钟出品商是桃太郎映像出版,ALD-289作品种子搜索下载,[JKSR-013]发行于2009-12-25时长123分钟出品商是ビッグモーカル,JKSR-013作品种子搜索下载

二维码 分享 产品详情 ALD-289 外径:Φ100 总高:26.5 内径:Φ59.8 盖高:2 中孔:45 中心距:R32 壳高:24.5

韩国CN1 ALD设备 双腔型/单腔型 专用于粉末颗粒/单片镀膜 工业量产 主要产品原子层沉积 北京朗铭润德光电科技有限公司 查看详情 ￥666.00/套 四川成都 日本中央精机原厂生产 滚珠丝杆规格XY平台ALD-3050-CT-R 成都町田科技有限公司 1年 查看详情 ￥4.50万/台 山东潍坊 艾特尔食品机械 ALD-1100型连续式...

Welcome to ALD Advanced Linear Devices Inc. designs, develops, and manufactures precision CMOS analog integrated circuits for OEMs in a broad spectrum of industries, including industrial control, computer, instrumentation, automotive, and telecom. ...

上海源象化学是一家专业从事提供和开发用于化学气相沉积和 原子层沉积 薄膜材料所需的特种电子化学品—即 ALD/ CVD高纯度前驱体源 ,以支持相关科研院校在半导体、显示、纳米、新能源、催化等领域的学术研究。公司在苏州建设有2000平方米的研发中心和多条生产实验线,产品种

NLD-4000(M)实验室科研用原子层沉积系统特点:NLD-4000是一款独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计,并提供了强大的灵活性,可以用于沉积多种薄膜(如:AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等)。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等...

25g期货 原价:¥1,604.90 +- 大包装询价添加到收藏夹比较SDS中文版DATASHEET 查看相关系列 六元杂环化合物 (1703)氧杂蒽类 (37) Skip to the end of the images gallery Skip to the beginning of the images gallery 基本描述 英文名称Acid Red 289 ...

原子层沉积(ALD)已成为一种沉积功能薄膜的重要技术,它可以在纳米级尺度上精确控制物质成分和形貌,将被沉积物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面(图1)[1]。原子层沉积过程是通过连续、自限制的半反应实现的,因其沉积薄膜厚度可控性、均匀性、保形性等优异性能,被广泛应用于电子材料、太阳能电池等领域中[2]...

随着微电子行业的发展, 集成度不断提高、器件尺寸持续减小, 使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战, 然而原子层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术, 因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好, 还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分, 仍然备受关注并被广泛应用于半导体