首页 >

ALD-389 搜索结果

  • [NHDTA-076][ALD-389]作品及种子搜索下载

    [NHDTA-076][ALD-389]作品及种子搜索下载
    2024-02-24 08:00:00

    [NHDTA-076]发行于2011-02-19时长136分钟出品商是ナチュラルハイ,NHDTA-076作品种子搜索下载,[ALD-389]发行于2010-12-07时长240分钟出品商是桃太郎映像出版,ALD-389作品种子搜索下载

  • ALD前驱体-环戊二烯基铟_ALD/CVD前驱体_ALD/CVD源瓶_MLD前驱体

    ALD前驱体-环戊二烯基铟_ALD/CVD前驱体_ALD/CVD源瓶_MLD前驱体
    2022-05-26 16:00:00

    ALD前驱体-环戊二烯基铟厦门理工学院连水养老师课题组使用我司的环戊二烯铟前驱体,通过氧气加等离子体原子层沉积方法,沉积了氧化铟薄膜,相关成果发表在Vacuum期刊中,祝贺连老师!时间:2022-05-27COPYRIGHT © 2016 南京爱牟源科学器材有限公司 ALL RIGHT RESERVED 技术支持:南京网站制作 苏ICP备16060731号-1 ...

  • 上古卷轴5:天际 上古卷轴历史档案馆介绍大全_98软件园

    上古卷轴5:天际 上古卷轴历史档案馆介绍大全_98软件园
    2024-09-02 18:11:53

    Breton---布莱顿人是天生的战斗法师,精通武器和魔法.他们的家乡有很多纷争的王国.他们可能有比较浓厚的先代人血统. Aldmer---高精灵是金色皮肤,身材高大有长耳朵的种族.他们自认为是先代人的最纯净血脉,自认为是帝国中最文明最高尚的种族. 高精灵文化高度保守,他们比较封闭,但是不可否认的是他们的文化和文艺风格...

  • ALD (Atomic Layer Deposition) -

    ALD (Atomic Layer Deposition) -
    2022-07-20 14:30:00

    以原子层为单位沉积技术 “Atomic Layer Deposition(ALD)” 的开发克服了原来的半导体技术局限。 ALD 技术和CVD, PVD薄膜生长技术相比具有以下优势:1.大部分ALD 工艺在400度以下的低温进行;2. 由于是以原子为单位沉积,可以精确的控制非常薄的薄膜,杂质含量低,几乎没有pin hole; 3. ALD 即使在 High Aspect Ratio...

  • P-369: Aldosterone (ALD) augmentes adrenomedullin

    P-369: Aldosterone (ALD) augmentes adrenomedullin
    2020-05-12 16:00:00

    Ald has been reported to be involved in the cardiovascular remodeling. Thus, the aim of this study is to examine the effects of Ald on AM and PAMP production and preproAM gene expression in human VSMCs. Cultured human aortic VSMCs were incubated with various concentrations of Ald. PreproAM...

  • Frontiers | ALD-R491 regulates vimentin filament

    Frontiers | ALD-R491 regulates vimentin filament
    2022-11-21 16:00:00

    The vimentin-binding compound used in this study was ALD-R491, (E)-1-(4-fluorophenyl)-3-(4-(4-(morpholine-1-yl)-6-styryl-1, 3, 5-triazinyl-2-amino) phenyl) urea. It has a molecular formula of C28H26FN7O2 and a purity of >98%. The compound was synthesized at Bellen Chemi...

  • CVD和ALD薄膜沉积技术应用领域 -

    CVD和ALD薄膜沉积技术应用领域 -
    2021-05-16 22:22:00

    CVD和ALD薄膜沉积技术应用领域 显示用于OLED、QD-OLED、甚至未来QLED的薄膜封装,通过有机/无机叠层结构的保护,水汽渗透率WVTR可降至10-5g/m2/day,保证OLED或者量子点发光材料的稳定。另外量子点光学膜QDEF也需…

  • 原子层沉积_光学镀膜_纳米涂层_ALD_CVD_PVD

    原子层沉积_光学镀膜_纳米涂层_ALD_CVD_PVD
    2024-09-19 23:55:48

    原速科技(Superald,LLC)是一家专注于开发新一代ALD原子层沉积(Atomic Layer Deposition, ALD)技术的高科技企业,为CVD,PVD,光学镀膜,钝化层,纳米涂层,卷对卷设备,薄膜材料,微纳加工及锂电池包覆等领域的薄膜研发和生产提供优质的技术服务和一体化解决方案,致力打造全球

热门用户

1 NewPPP 101936篇
2 PPP知乎 555篇
3 PPP头条 287篇
4 中政智信 278篇
5 森墨传媒 264篇
6 ppp观点 264篇
7 PPP门户 245篇
8 中投协APIF 215篇
9 中国PPP知行汇 213篇
10 PPP操作实务 203篇