ALD-461 搜索结果

[ALD-461]发行于2011-09-07时长241分钟出品商是桃太郎映像出版,ALD-461作品种子搜索下载,鈴音さゆみ 百花エミリ[PARATHD-301]发行于2011-09-03时长115分钟出品商是パラダイスTV,PARATHD-301作品种子搜索下载

原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)是一种先进的沉积技术,允许以精确控制的方式沉积数纳米厚度的薄膜。ALD不仅提供了出色的厚度控制和均匀性,还能够对高长宽比结构进行全覆盖的包覆。ALD依赖于自限制的表面反应,因此针孔和微粒含量通常很低,有利于广泛的应用。薄膜和界面控制水平以及所提供的高薄膜质量是许多应用...

上海源象化学是一家专业从事提供和开发用于化学气相沉积和 原子层沉积 薄膜材料所需的特种电子化学品—即 ALD/ CVD高纯度前驱体源 ,以支持相关科研院校在半导体、显示、纳米、新能源、催化等领域的学术研究。公司在苏州建设有2000平方米的研发中心和多条生产实验线,产品种

相比于ALD技术，PVD技术生长机理简单，沉积速率高，但一般只适用于平面的膜层制备；CVD技术的重复性和台阶覆盖性比PVD略好，但是工艺过程中影响因素较多，成膜的均匀性较差，并且难以精确控制薄膜厚度。（3）ALD、PVD、CVD技术应用差异 PVD、CVD、ALD技术各有自己的技术特点和技术难点，经过多年的发展，亦分别发展出...

随着微电子行业的发展, 集成度不断提高、器件尺寸持续减小, 使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战, 然而原子层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术, 因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好, 还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分, 仍然备受关注并被广泛应用于半导体

原子层沉积(ALD)已成为一种沉积功能薄膜的重要技术,它可以在纳米级尺度上精确控制物质成分和形貌,将被沉积物质以单原子膜形式一层一层地镀在基底表面(图1)[1]。原子层沉积过程是通过连续、自限制的半反应实现的,因其沉积薄膜厚度可控性、均匀性、保形性等优异性能,被广泛应用于电子材料、太阳能电池等领域中[2]...

简介：MYK-461是心肌肌球蛋白的调节剂，其在牛心脏和人心脏中的 IC50 值分别为 490，711 nM。MYK-461物理化学性质：MYK-461详细介绍：MYK-461参考文献：[1]. Kawas RF, et al. A small-molecule modulator of cardiac myosin acts on multiple stages of the myosin chemomechanical cycle. J Biol Chem. ...