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ALD-489 搜索结果

  • 辻美奈代[PA-622][ALD-489]作品及种子搜索下

    辻美奈代[PA-622][ALD-489]作品及种子搜索下载
    2023-02-26 21:00:00

    辻美奈代[PA-622]发行于2003-11-12时长68分钟出品商是現映社,PA-622作品种子搜索下载,[ALD-489]发行于2011-12-07时长242分钟出品商是桃太郎映像出版,ALD-489作品种子搜索下载

  • BLI

    BLI
    2025-04-11 16:00:00

    BLI-489 英文别名: BLI-489 中文名: 中文别名: CBNumber: CB74669862 分子式: 分子量: 0 MOL File: Mol file 化学性质安全信息用途供应商1 BLI-489化学性质 安全信息 BLI-489性质、用途与生产工艺 BLI-489上下游产品信息 上游原料 下游产品 BLI-489生产厂家 ...

  • 【ald原子层沉积设备 NLD

    【ald原子层沉积设备 NLD
    2025-04-02 16:00:00

    NLD-4000(M)实验室科研用原子层沉积系统特点:NLD-4000是一款独立的PC计算机控制的ALD原子层沉积系统,带Labview软件,具备四级密码控制的用户授权保护功能。系统为全自动的安全互锁设计,并提供了强大的灵活性,可以用于沉积多种薄膜(如:AL2O3, AlN, TiN, ZrO2, LaO2, HfO2,等等)。应用领域包含半导体、光伏、MEMS等...

  • 微导纳米:签订5.2亿元全自动ALD钝化设备及PE

    微导纳米:签订5.2亿元全自动ALD钝化设备及PE
    2024-03-15 08:42:00

    每经AI快讯,3月15日,微导纳米公告,公司近日与光伏龙头企业签署了设备销售合同。根据合同约定,公司拟向该企业销售全自动ALD钝化设备及PE-Poly设备,合同金额合计约5.2亿元。每日经济新闻

  • ALD原子层沉积技术发展及应用

    ALD原子层沉积技术发展及应用
    2025-04-12 00:10:03

    随着微电子行业的发展, 集成度不断提高、器件尺寸持续减小, 使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战, 然而原子层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术, 因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好, 还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分, 仍然备受关注并被广泛应用于半导体

  • ALDN240 ALDN-240中文字幕种子下载

    ALDN240 ALDN-240中文字幕种子下载
    2023-11-24 16:00:00

    【中文】:ALDN240 ALDN-240中文字幕种子下载 【英名】:あん時のセフレは…友人の母親+花撫あや ALDN240_ALDN-240中文字幕 【时长】:150分钟 【发行商】:タカラ映像 【演员表】: 【上映时间】:2023-11-25 【字幕下载】:ALDN240_ALDN-240中文字幕.rar ...

  • INDEX OF ABSTRACT AUTHORS

    INDEX OF ABSTRACT AUTHORS
    2024-01-01 16:00:00

    LI LABORATORY INVESTIGATION THE BASIC AND TRANSLATIONAL PATHOLOGY RESEARCH JOURNAL | |VOLUME 98 SUPPLEMENT 1 MARCH 2018 2018 ABSTRACTS INDEX OF ABSTRACT AUTHORS 107TH ANNUAL MEETING GEARED TO LEARN MARCH 17-23, 2018 Vancouver Convention Centre Vancouver, BC, Canada ABSTRACTS2018 PLATFORM & POSTER ...

  • Publications - Shahrukh K. Hashmi, M.D. - Mayo

    Publications - Shahrukh K. Hashmi, M.D. - Mayo
    2025-02-18 16:00:00

    Hashmi S, Shaheen M, Adil S, Ahmed P, Ahmed S, Ben Abdeljelil N, Alabdulwahab A, Albeihany A, Aldaama S, Al-Khabori M, Alkindi S, Almohareb F, Alsaeed A, Alseraihy A, Alshemari S, Ayas M, Chaudhri N, Da'na W, Dennison D, ElQuessar A, Elhaddad A, Ibrahim A, Hashem...

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