[TSP-163]发行于2012-04-07时长172分钟出品商是東京スペシャル,TSP-163作品种子搜索下载,[ALD-523]发行于2012-04-07时长241分钟出品商是桃太郎映像出版,ALD-523作品种子搜索下载
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[38]采用原子层沉积技术ALD在523三元材料表面沉积了厚度仅为43nm的ZnOALD技术包覆更加均匀超薄的ZnO层既可有效减少金属离子在电解液中的溶解缓解电极免受电解液的腐蚀同时其超薄型有利于Li快速迁移ALD包覆显著提升了523三元材料的电化学...
(2)利用ALD手段对SC-NCM实现均匀的快离子导体Li3PO4包覆,有效抑制副反应、助力无定形富LiF的CEI膜生成,显著提升了其在准固态电池体系中电化学性能。【图文导读】采用ALD法的在NCM523单晶正极表面涂覆LPO,如图1a所示。通过像差校正透射...