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Microelectronic Engineering Volume 88, Issue 5, May 2011, Pages 641-645Comparison of PVD, PECVD & PEALD Ru(-C) films as Cu diffusion barriers by means of bias temperature stress measurements...

8/YY","中国应急管理核心要素研究","杨颖著","人民日报出版社""307","G641/GXL","立德树人理论与实践","高秀兰主编","中国文史出版社""308","E892.25/CYL","通明兵圣智慧","陈永林编著","中央编译出版社""309","I04/...