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PVD真空镀膜技术的概念是在真空度较高的环境下,通过加热或高能粒子轰击的方法使源材料逸出沉积物质粒子(可以是原子、分子或离子),这些粒子在基片上沉积形成薄膜的技术。其技术关键在于:如何将源材料转变为气相粒子(而非CVD的化学反应)。