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6. 原子层沉积设备ALD - 半导体装备 Semiconductor -原子层沉积设备ALD 原子层沉积是一种可以将物质以单原子膜形式一层一层的镀在基底表面的方法,是制备薄膜材料的重要方法之一。它的特点是自限制性,这也决定了原子层沉积技术具有厚度高度可控、优异的均匀性及良好的保形性等众多优点,...
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