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5. ALD技术半导体工艺领域发展及应用 - 工艺/制造 -由于低温沉积、薄膜纯度以及绝佳覆盖率等固有优点,ALD(原子层淀积)技术早从21世纪初即开始应用于半导体加工制造。DRAM电容的高k介电质沉积率先采用此技术,但近来ALD在其它半导体工艺领域也已发展出愈来愈广泛的应用。
6. 卓力能ALD深圳市卓力能技术股份有限公司(卓力能ALD),10年行业经验积淀,从事电子雾化设备研发与生产,200余项技术专利,3000多名员工团队,是一家高科技大型跨国公司。
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